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全國服務熱線0755-2996 9595
英文名稱:
產品應用:?晶圓濕法加工:硅晶圓表面真空電鍍包括銅,鈦/鎢等金屬 ?在硅晶圓表面制作圖案:采用貼干膜(光阻),圖案成像曝光(EUV, Laser or X-Ray等),顯影,蝕刻和退膜等步驟 ?顯影:通常采用碳酸鈉或碳酸鉀等弱堿藥水 ?蝕刻:1. 銅蝕刻通常采用硫酸+雙氧水微蝕藥水 2. 鈦/鎢蝕刻采用雙氧水或氫氟酸等藥水 ?退膜:采用有機堿或有機溶劑等藥水
制造廠家:Chemcut
產 地:
服務熱線:0755-2996 9595
產品說明:
晶圓濕法加工包括銅,鈦/鎢等金屬蝕刻,干膜顯影和退膜等
產品規格:
板件尺寸:Wafer 8” x 3, 12” x 2 , 600mm PLP(可定制)
板厚能力:0.025 – 2.0 mm
設備線速:1.0~3.0m/min可調節
顯影能力:Pitch 5um
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